金属膜の均一性

金属膜のシート抵抗の均一性はデバイス性能の確保に不可欠であり、ほとんどの金属膜は4PP（4探針）プローブとEC（渦電流）プローブの両方で測定可能です。厚みがあり導電性の高い金属膜には渦電流(EC)が推奨され、薄い金属膜（10Ω/sq以上）には4探針(4PP)が推奨されます。ただし、4PP/ECの相関性は非常に高いため、どちらの方法を使用しても正確な結果が得られます。

R50シート抵抗マッピングシステムは、膜の均一性、蒸着品質、およびその他のプロセスのばらつきを測定します。 この2μm AlCu膜のECマップは、オフセンターデポを識別し定量化します。

イオン注入特性評価

4PPは、イオン注入プロセスを測定するための標準技術です。 熱アニール後のイオン注入のマッピングにより、ランプの故障、ウェーハとプラテンの接触不良、またはインプラント量のばらつきによるホットスポットおよびコールドスポットを特定できます。イオン注入されたシリコン層では、ドーパントイオンを活性化するために熱アニール処理が必要です。

左の例では、3つの赤色（高抵抗）スポットが、イオンインプラントアニーリング（右の例）の際、3つのウェーハ支持体による熱損失が最も大きい場所を示しています。温度の均一性はアニールプロセスにとって非常に重要であり、ウェーハエッジや接触点での熱損失は、活性化の均一性にとって深刻な影響を与える可能性があります。 光に敏感なサンプルの場合は、通常Filmetrics R54-シリーズの、カバー付きのシート抵抗マップングシステムをお勧めします。

膜厚/抵抗率/シート抵抗 測定されたウェーハデータは、シート抵抗、膜厚、抵抗率としてマッピングできます。

材料の抵抗率値を入力することで、厚さを計算して表示できます。また、厚さの値を入力すると、抵抗率を計算できます。

データ収集と可視化

RsMapperソフトウエアは、データ取得と解析機能を1つに統合したR50の直感的なユーザーインターフェイスであり、測定や、オフライン解析に使用することができます。 データを取得する測定ポイントは、さまざまな座標レイアウトを使用して簡単に定義できます。

RsMapperのプラットフォームは、左に示すイオンビームスキャン問題に示すように、重要な膜の均一性データを迅速に可視化するために、測定結果を2Dまたは3Dで表示できます。 ソフトウェアでは、個々の測定パラメータのマップと回転可能な3Dマップを簡単に切り替えて表示することができ、プロセスパラメータのカスタマイズビューが得られます。シート抵抗、抵抗率、金属膜厚の測定に関わらず、RsMapperソフトウエアは視覚的に説得力のあるデータを提供します。