Gleichmäßigkeit des Flächenwiderstands von Metallfilmen

Die Gleichmäßigkeit des Flächenwiderstands ist entscheidend für die Gewährleistung der Geräteperformance. Die meisten Metallfilme können sowohl mit 4PP als auch mit EC gemessen werden. EC wird für dickere, hochleitfähige Metallfilme empfohlen, 4PP für dünnere Metallfilme ( > 10Ω/sq). Eine sehr hohe 4PP/EC-Korrelation gewährleistet genaue Ergebnisse mit beiden Methoden.

Die R50-Widerstandsmaps zeigen die Gleichmäßigkeit der Beschichtung, die Qualität der Abscheidung und andere Prozessparameter auf. Diese EC-Map eines 2 μm AlCu-Films zeigt und quantifiziert eine dezentrale Abscheidung.

Die Ionenimplantationscharakterisierung

(4PP) ist die Standardmethode zur Messung von Ionenimplantationsprozessen. Durch das Mappen des Flächenwiderstands nach dem Annealing lassen sich heiße und kalte Stellen identifizieren, die auf Lampenausfall, schlechten Wafer-/Plattenkontakt oder Schwankungen der Implantat Dosis zurückzuführen sind. Für eine ionenimplantierte Siliziumschicht ist Annealing erforderlich, um die dotierten Ionen zu aktivieren.

Im Beispiel links zeigen die drei roten Punkte Orte mit hohen Widerständen an. An diesen Stellen tritt während dem Annealen der größte Wärmeverlust aufgrund der drei Waferhalterung. (Beispiel rechts) Temperaturgleichmäßigkeit ist beim Annealen entscheidend, Wärmeverluste am Waferrand und an den Kontaktstellen können eine ernsthafte Herausforderung darstellen. Beachten Sie, dass für lichtempfindliche Proben die Filmetrics R54-Serie mit geschlossenem Gehäuse empfohlen wird.

Schichtdicke/Resistivität/Flächenwiderstand

Gemessene Wafer Daten können als Flächenwiderstand, Schichtdicke oder Resistivität abgebildet werden. Durch Eingabe des Resistivitäts für ein Material kann dessen Schichtdicke berechnet und angezeigt werden; Die Resistivität kann berechnet werden, wenn der Schichtdickenwert eingegeben wird.

Datenerfassung und Visualisierung

RsMapper ist die intuitive Benutzeroberfläche von R50, die Datenerfassungs- und Analysefunktionen in einer einzigen Plattform vereint. Die Software kann entweder direkt am Tool oder separat für Offline-Analysen verwendet werden. Die Koordinaten für Messstellen kann einfach mithilfe verschiedener Layouts festgelegt werden.

Die RsMapper-Plattform kann die Messergebnisse entweder in 2D oder 3D anzeigen, um wichtige Daten zur Filmgleichmäßigkeit schnell zu visualisieren, wie bei dem Ionenstrahl-Scanning-Muster links dargestellt. Die Software ermöglich das Wechseln zwischen Maps einzelner Messparameter und drehbaren 3D-Profilen, um individuelle Ansichten der Prozessparameter bereitzustellen. Ob Sie Flächenwiderstand, Resistivität oder Metallfilmdicke messen – RsMapper liefert überzeugende visuelle Daten.