Gleichmäßigkeit des Flächenwiderstands von Metallfilmen

Die Gleichmäßigkeit des Flächenwiderstands ist entscheidend für die Performance der Endgeräte. Die meisten Metallfilme können sowohl mit 4PP als auch mit EC gemessen werden. EC wird für dickere, hochleitfähige Metallfilme empfohlen, 4PP für dünnere Metallfilme (> 10Ω/sq). Eine sehr hohe 4PP/EC-Korrelation gewährleistet genaue Ergebnisse bei beiden Methoden.

Die Flächenwiderstand Maps von Filmetrics R54 zeigen die Gleichmäßigkeit der Filmdicke, die Qualität der Abscheidung und andere Prozessvariationen auf. Das Beispiel links ist die Map einer TiWN-Schicht, die den Fingerabdruck des Batch-Reaktors entspricht.

Optimierung des Ionenimplantationsprozesses

Die 4PP-Sonde ist die Standardmethode zur Messung von Ionenimplantationsprozessen. Die Filmetrics R54-Software umfasst I-V-Kurvenaufzeichnungen und Strom-Ramp-Scans. Die Funktionen sind hilfrech um den verwendeten Strom während der Messung zu optimieren oder Stromlecks zwischen einer Implantatschicht und dem tragenden Siliziumsubstrat zu identifizieren. Kontur Maps und Durchmesserscans eines Ionenimplantationswafers nach dem thermischen Annealen können heiße und kalte Stellen aufzeigen, die auf Lampenausfall, schlechten Wafer-/Plattenkontakt oder Schwankungen der Implantatdosis zurückzuführen sind.

Im Beispiel links wurde der Prozess optimiert, indem der thermische Kontakt auf der Rückseite verbessert wurde. Eine genaue Messung des Flächenwiderstands entlang der Wafer-Durchmesser liefert die notwendigen Informationen, um das Heizprofil des Reaktors zu optimieren und so Ungleichmäßigkeiten zu reduzieren.

Film- Dicke/-Resistiviät/Flächenwiderstand

Gemessene Waferdaten können als Flächenwiderstand, Filmdicke oder Resistivität abgebildet werden. Durch Eingabe eines Resistivität-Wertes (oder einer widerstandsabhängigen Funktion) für ein Material kann dessen Dicke berechnet und angezeigt werden; Die Resistivität kann berechnet werden, wenn der Schichtdickenwert eingegeben wird.

Datenerfassung und Visualisierung

RsMapper ist die intuitive Benutzeroberfläche von R50, die Datenerfassungs- und Analysefunktionen in einer einzigen Plattform vereint. Die Software kann entweder direkt am Tool oder separat für Offline-Analysen verwendet werden. Die Koordinaten für Messstellen kann einfach mithilfe verschiedener Layouts festgelegt werden.

Die RsMapper-Plattform kann die Messergebnisse entweder in 2D oder 3D anzeigen, um wichtige Daten zur Filmgleichmäßigkeit schnell zu visualisieren, wie bei dem Ionenstrahl-Scanning-Muster links dargestellt. Die Software ermöglich das Wechseln zwischen Maps einzelner Messparameter und drehbaren 3D-Profilen, um individuelle Ansichten der Prozessparameter bereitzustellen. Für den Remote-Betrieb ist eine SECS/GEM Basic Schnittstelle verfügbar.