금속 박막 균일성

금속 박막의 시트 저항 균일성은 소자 성능을 보장하는 데 매우 중요하며, 대부분의 금속 박막은 4PP 및 EC 모두로 측정할 수 있습니다. EC는 두꺼운 전도성이 높은 금속 박막에 권장되며, 4PP는 얇은 금속 박막( > 10Ω/sq)에 권장되지만 4PP/EC 상관 관계가 매우 높으면 두 가지 방법 중 하나를 사용해도 정확한 결과가 나옵니다.

Filmetrics R54 저항률 맵은 박막 균일성, 증착 품질 및 기타 공정 변화를 강조합니다. 왼쪽의 예는 TiWN 증착층 맵으로, 배치 원자로의 지문을 보여줍니다.

이온 주입 공정 최적화

4PP 프로브는 이온 주입 공정을 측정하는 표준 기술입니다. Filmetrics R54 소프트웨어에는 측정 중에 사용된 전류를 최적화하거나 주입 층과 지지 실리콘 기판 간의 전류 누출을 식별하는 데 사용할 수 있는 I-V 곡선 플로팅 및 전류 램프 스캔이 포함되어 있습니다. 열 어닐링 후 이온 주입자의 윤곽선 맵 및 지름 스캔을 통해 램프 고장, 웨이퍼/플래튼 접촉 불량 또는 이온 주입 선량 변화로 인한 핫 지점 및 콜드 지점을 식별할 수 있습니다.

왼쪽 예에서는 후면 열 접합전도층을 개선하여 공정을 최적화했습니다. 웨이퍼 지름에 걸친 저항을 정확하게 측정하면 반응기의 난방 프로파일을 최적화하여 불균일성을 줄이는 데 필요한 정보를 얻을 수 있습니다.

박막 두께/저항률/면저항

측정된 웨이퍼 데이터는 면저항, 박막 두께 또는 저항으로 매핑될 수 있습니다. 소재에 대한 저항 값(또는 저항 종속 함수)을 입력하면 두께를 계산하고 표시할 수 있으며, 두께 값을 입력하면 면저항을 계산할 수 있습니다.

데이터 수집 및 시각화

RsMapper는 데이터 수집 및 분석 기능을 단일 플랫폼에 결합한 R54 직관적인 사용자 인터페이스로, 이 플랫폼을 도구 자체에서 사용하거나 오프라인 분석에 사용됩니다. 다양한 좌표 레이아웃을 사용하여 측정 현장에 대한 데이터 수집을 쉽게 지정할 수 있습니다.

RsMapper 플랫폼은 왼쪽에 표시된 이온 빔 스캐닝 문제에 대한 예와 같이 중요한 박막 균일성 데이터를 신속하게 시각화하기 위해 2D/3D 측정 결과를 표시할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 개별 측정 매개변수의 맵과 회전 가능한 3D 프로파일 사이를 쉽게 전환하여 공정 매개변수의 사용자 지정 뷰를 제공합니다. SECS/GEM 기본 인터페이스는 원격 벤치톱 운영에 사용할 수 있습니다.