PECVD

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)은 플라즈마 내의 에너지를 사용하여 기존의 CVD 공정보다 더 높은 온도로 웨이퍼 표면에 반응(Deposition)을 유도할 수 있는 프로세스입니다. 증착중에 발생되는 이온의 충돌 에너지는 필름의 전기적 및 기계적 특성을 향상시킬 수도 있습니다.

Delta Deposition Systems

SPTS의 Delta PECVD 시스템은 MEMS, 화합물 반도체 및 Advanced packaging 등 광범위한 산업에 사용 되어지며, 특히 낮은 온도에서 증착이 필요로 한 Process에서 사용됩니다.

Delta® 증착 시스템

Delta® 증착 시스템

델타® 증착 시스템 델타®  PECVD 시스템은 MEMS, 컴파운드 반도체, 어드밴스 패키징 등의 광범위한 응용 분야에...

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